Ультразвуковая распылительная система для покрытия фоторезиста

 

 

 

Ультразвуковая распылительная система для нанесения фоторезистивного покрытия. Нанесение фоторезистивного покрытия является альтернативой методу центрифугирования. Раствор фоторезиста распыляется в жидкость микронного размера с помощью высокочастотной ультразвуковой вибрации, а затем капли фоторезиста наносятся на поверхность подложки, образуя непрерывную пленку фоторезиста. Таким образом, напыление может покрыть всю поверхность подложки любой формы и обеспечить конформное покрытие независимо от топологии.
Для распыления фоторезиста фоторезист должен иметь достаточно низкую вязкость. Обычно при вязкости в несколько сСт может потребоваться разбавление фоторезиста растворителем. Разбавление фоторезиста может ускорить процесс старения фоторезиста и привести к образованию частиц в носителе. Еще одним ограничением распыления является то, что трудно сформировать тонкие пленки размером менее 1 мкм из-за случайного распределения капель, падающих на поверхность. Для формирования сплошной тонкой пленки необходимо достичь минимальной критической плотности капель фоторезиста, что увеличивает минимальную толщину пленки и время обработки.

 

 

 

 

 

1. Производство полупроводников. В процессе производства чипов ультразвуковое напыление фоторезиста может повысить точность процесса фотолитографии.
2. Микронанообработка. Точное покрытие фоторезистом имеет решающее значение при изготовлении микроструктур и наноструктур.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

горячая этикетка : система ультразвукового распыления для нанесения фоторезиста, Китай ультразвуковая система распыления для нанесения фоторезиста, производители, поставщики, завод